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電子工業對氯化氫的新要求

返回  打印  發布時間:2013/11/5 點擊:10301

    現(xian)在電子行(xing)(xing)業(ye)(ye)也(ye)成為(wei)一個熱門的行(xing)(xing)業(ye)(ye),正(zheng)向著高(gao)(gao)集成化(hua)、高(gao)(gao)完整性(xing)發展。電子行(xing)(xing)業(ye)(ye)的制(zhi)造需要(yao)(yao)氯化(hua)氫的參(can)與,因(yin)為(wei)電子行(xing)(xing)業(ye)(ye)的要(yao)(yao)求(qiu)提(ti)高(gao)(gao)了,所(suo)以氯化(hua)氫的使用(yong)要(yao)(yao)求(qiu)也(ye)提(ti)高(gao)(gao)了,我們一起來看一下(xia)電子行(xing)(xing)業(ye)(ye)對氯化(hua)氫的新要(yao)(yao)求(qiu)。

    電子級(ji)氯化(hua)氫是指純度高于99.999%的(de)高純度氯化(hua)氫氣(qi)體。除了(le)對純度要求(qiu)較高以外,對氯化(hua)氫氣(qi)體的(de)品質(zhi)要求(qiu)也(ye)非常嚴格。

    隨著微電子工業向著大尺寸、高集成化、高均勻性和高完整性方向的飛速發展,對廣泛用于單晶硅氣相拋光和外延機座腐蝕的電子級氯化氫也有了新的要求。除了應具有99.999%以上的純度,還要求氯化氫的THC、H2O和金屬離子等有機雜質的含量越低越好。
    電子(zi)(zi)級氯(lv)化(hua)(hua)氫主(zhu)要用于外延(yan)生(sheng)長前硅(gui)和砷化(hua)(hua)鎵(jia)高(gao)溫氣(qi)相刻蝕,清除(chu)鈉離子(zi)(zi)。另(ling)外高(gao)純氯(lv)化(hua)(hua)氫也(ye)用于金屬表面化(hua)(hua)學處(chu)理,激光(guang)用混合氣(qi)、膠片生(sheng)產(chan)及碳纖維表面處(chu)理。過去(qu)我(wo)國(guo)(guo)(guo)大多從美、日等(deng)國(guo)(guo)(guo)進口電子(zi)(zi)級氯(lv)化(hua)(hua)氫,但近年來,我(wo)國(guo)(guo)(guo)電子(zi)(zi)工業所需的化(hua)(hua)學氣(qi)體的研制(zhi),在技術上已有不少突破和發(fa)展。

    從以上介紹來看我們電子所需的氣體在近幾年已經有了很大的發展,同時北京華宇同方在很大程度上填補了電子級氯化氫的(de)空(kong)白(bai)。言(yan)赫特氣(qi)直屬(shu)于北(bei)京(jing)華宇同(tong)方,所以(yi)我(wo)們的(de)質量您絕度放心,是(shi)您值得(de)信賴(lai)的(de)一家(jia)公(gong)司。

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